상업 공간 유리관리
경기 김포시 반도체 공장 유리 세척 작업일지, 초정밀 클린룸 등급 유리 관리의 현실
경기 김포시 반도체 공장은 클린룸 등급이 Class 100 이하로 일반 클린룸보다 수십 배 까다로운 환경이었습니다. FAB 관찰창 세척 시 발생하는 미세 입자까지 통제하며 작업한 과정과 품질 검증 결과를 기록합니다.
공간 유형
반도체 FAB 클린룸 시설
핵심 과제
Class 100 파티클 기준 유지 + FAB 관찰창 투명도 확보
작업 시간
약 8시간
마감 기준
파티클 카운트 Class 100 이내 + 유기물 잔사 제로
경기 김포시 반도체 공장 현장 등급과 유리 세척 요구사항 확인
경기 김포시 현장은 메모리 반도체를 생산하는 대형 FAB 시설로, 전공정 클린룸은 Class 10, 후공정은 Class 100으로 관리되는 초정밀 환경이었습니다. 세척 대상은 FAB 외부 복도에서 내부를 관찰하는 이중 기밀 유리 관찰창 16면과 유틸리티 구역의 연결 통로 유리벽 8면이었습니다. 시설팀은 관찰창 세척 과정에서 FAB 내부 파티클 수치가 변동하면 안 된다는 절대 조건을 제시했습니다.
관찰창은 FAB 내부의 웨이퍼 공정 장비와 FOUP 이동 로봇을 모니터링하는 데 사용되는데, 미세 화학 증기와 순환 공기 중 미립자가 오랜 기간 유리에 축적되어 시인성이 크게 저하된 상태였습니다. 유틸리티 구역 유리벽에는 배관 설비에서 발생한 미세 진동으로 느슨해진 실링 부위에서 유입된 분진이 유리 하단에 집중적으로 쌓여 있었습니다.
현장 체크포인트
- FAB 클린룸 등급별 파티클 허용 기준 사전 확인
- 관찰창 16면 기밀 유리 구조와 실링 상태 점검
- 유틸리티 구역 분진 유입 경로와 실링 이상 부위 기록
초정밀 클린룸 인접 세척을 위한 장비와 프로토콜 설계
반도체 FAB 인접 유리 세척은 일반 클린룸 세척보다 훨씬 엄격한 프로토콜이 필요합니다. 사용하는 모든 와이퍼, 장갑, 클리너가 반도체 등급 클린룸 인증을 받은 제품이어야 하며, 세정제는 초순수(UPW) 기반의 반도체 전용 클리너만 허용되었습니다. 장비 반입 전 전량 클린룸 등급 진공 포장 상태를 확인했습니다.